高效率磁控靶源

高效率磁控靶源
靶材利用率:
(1)金屬靶:40%
(2)陶瓷靶:30%
膜厚均勻性:最大3%
獨特的複合式磁石陣列

旋轉磁控靶源
膜厚均勻性: 3%
適用靶材: TCO、Metal

高密度電漿源

CVD電漿源:

高密度電漿

移動式Cathode:
靶材規格: 550*125*6mm
旋轉速度: 10-100rpm
膜厚均勻性: 3%

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地址:台南市安定區港口里332-32號電話:+886-6-593-1695 傳真:+886-6-593-1625

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