鉅永真空科技股份有限公司
繁體中文 English
Juantjuant02
首頁 » 核心技術 » 高效率磁控靶源

  高效率磁控靶源

高效率磁控靶源
靶材利用率:
(1)金屬靶:40%
(2)陶瓷靶:30%
膜厚均勻性:最大3%
獨特的複合式磁石陣列




旋轉磁控靶源 
膜厚均勻性: 3%
適用靶材: TCO、Metal





高密度電漿源

CVD電漿源:




高密度電漿



移動式Cathode:

靶材規格: 550*125*6mm
旋轉速度: 10-100rpm
膜厚均勻性: 3%



 

瀏覽次數 : 3256