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高效率磁控靶源
高效率磁控靶源
靶材利用率:
(1)金屬靶:40%
(2)陶瓷靶:30%
膜厚均勻性:最大3%
獨特的複合式磁石陣列
旋轉磁控靶源
膜厚均勻性: 3%
適用靶材: TCO、Metal
高密度電漿源
CVD電漿源:
高密度電漿
移動式Cathode:
靶材規格: 550*125*6mm
旋轉速度: 10-100rpm
膜厚均勻性: 3%
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