PECVD電漿輔助化學氣相沉積

1. 基板尺寸: 12”
2. 單腔體:約 500x500x400mm
3. 加熱系統 :搭配PID溫控器,Stage最高溫可控制在 300℃
4. 電源: RF電源
5. 可調整承載台工作距離
6. 膜厚均勻性<3% (U%=(Max-min)/(2avg.))

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