太陽能濺鍍設備
觸控面板濺鍍設備
表面裝飾濺鍍設備
抗電磁波濺鍍設備
OLED鍍膜設備
PECVD電漿輔助化學氣相沉積
水平連續式陶瓷元件鍍膜系統
平板顯示器自動化設備
批次式鍍膜設備及實驗設備
小量代工服務
二手設備買賣(1)
二手設備買賣(2)
產品Q&A
高效率磁控靶源
製程經驗
公司沿革
技術團隊
設備經驗
實驗室介紹
首頁
»
產品服務
»
OLED鍍膜設備
太陽能濺鍍設備
觸控面板濺鍍設備
表面裝飾濺鍍設備
抗電磁波濺鍍設備
OLED鍍膜設備
PECVD電漿輔助化學氣相沉積
水平連續式陶瓷元件鍍膜系統
平板顯示器自動化設備
批次式鍍膜設備及實驗設備
小量代工服務
二手設備買賣(1)
二手設備買賣(2)
OLED鍍膜設備
全彩OLED沉積設備
1.基本尺寸: □ 200 × 200 × 0.7 mm 玻璃
2.自動對位精確度: +/- 1 um
3.膜厚均勻性: ≦ 3 %
組裝現場圖
Cluster真空爐系統
1.基板尺寸: □ 370 × 470 × 0.7 mm 玻璃
2.台車:20片/台
3. 溫度控制: 130 ℃ ~ 170 ℃ +/- 5 ℃ 以內
4.條碼機
5.入料站:與MGV配合
6.出料站
7.程式控制 : PLC + PC
組裝現場圖
瀏覽次數 : 8168