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OLED鍍膜設備
全彩OLED沉積設備
1.基本尺寸: □ 200 × 200 × 0.7 mm 玻璃
2.自動對位精確度: +/- 1 um
3.膜厚均勻性: ≦ 3 %
組裝現場圖
Cluster真空爐系統
1.基板尺寸: □ 370 × 470 × 0.7 mm 玻璃
2.台車:20片/台
3. 溫度控制: 130 ℃ ~ 170 ℃ +/- 5 ℃ 以內
4.條碼機
5.入料站:與MGV配合
6.出料站
7.程式控制 : PLC + PC
組裝現場圖
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