公司沿革

2003年09月公司成立，網羅業界精英成立研發團隊，並於2005年自製裝飾鍍膜及電磁波屏蔽鍍膜設備出貨。鑑於國際社會響起一片節能減碳的聲浪，對於替代石油能源的各種綠能產業紛紛興起，其中以太陽能為最具新一代替代能源之潛力，因此在2007年投入薄膜太陽能製程進行先期研發，並成功開發CIGS薄膜太陽能Mo、CIG、ZnO、AZO、AL鍍層製程，高溫硒化設備，並經客戶認證已超越業界標準，是業界唯一擁有高溫硒化設備實績的設備製造商，並在2009年初成功的協助客戶端完成薄膜太陽能整廠建置並導入量產；同年完成觸控面板透明導電膜及抗反射膜鍍膜製程技術及設備開發。2011年工廠擴線搬遷至現址，朝真空濺鍍設備及鍍膜技術之研發不斷創新及開發，相關重要里程碑如下:

2011 –工廠擴線搬遷

         – CIGS太陽能高?硒化設備

         – 水平連續式陶瓷鍍膜系統開發完成

2010 – 5代CIGS太陽能鍍膜設備

2009 – 3.5代觸控面板透明導電膜鍍膜設備

2008 – 薄膜太陽能板鍍膜設備

2007 – 高速電磁波屏蔽層鍍膜連續設備

2006 – 使用於NB/3C消費電子產品機殼之電磁波屏蔽層鍍膜連續設備

2005 – 表面裝飾鍍膜連續設備

2004 – 真空鍍膜技術與自動化設備團隊成立

2003 – 公司成立